宇微光学成立于2020年10月，公司依托华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室、武汉光电国家研究中心等国家级平台在集成电路制造领域十余年深耕取得的重要成果，致力于 光刻掩模优化设计技术与软件（OPC软件）的自主开发，旨在打破Synopsys、Mentor、ASML-Brion三家美国公司垄断，保障我国IC制造厂商持续将芯片设计转化为芯片产品的能力。

 

到2025年，全球半导体芯片市场规模预计将达到破纪录的5.5万亿人民币，用以支撑10.5万亿规模的万物互联市场，目前国内芯片设计、制造、封装、测试从软件到硬件全生命周期均依赖于国外技术与装备，芯片制造相关技术已成为制约我国实现产业化升级的关键因素。与制造设备一样，光刻掩模优化设计技术与软件（OPC软件）同样是制约我国IC制造产业可持续发展的“卡脖子”难题，国内目前尚无商业化OPC软件产品，宇微光学的研发将填补国内技术空白。