中锃半导体（深圳）有限公司，成立于2023年十月，是一家在半导体行业占据领先地位的企业，专注于高性能半导体产品的研发与制造。

 

中锃半导体（深圳）有限公司聚焦于特色工艺领域的“等离子体干法刻蚀设备（Plasma Dry Etch）”和“关键工艺解决方案”，全力开发针对碳化硅材料的深刻蚀设备和工艺（Deep SiC Etch），用以支持沟槽栅（Trench-Gate）的实现和更广阔器件设计窗口。

 

中锃半导体（深圳）有限公司是一家专注于高性能半导体产品研发和生产的领先企业，具有强大的股东背景、专业的团队和丰富的知识产权储备。中锃半导体致力于技术创新和产业升级，为半导体行业的发展做出了积极贡献。